
300mm实验室自动卷对卷涂布机
设备型号:CI-TB-501
CI-TB-501 用于实验室小批量极片制备,可替代手工刮浆与烘箱烘干,提高涂层均匀性和烘干效率。收卷采用自动纠偏、精度 ±0.2 mm;高精度涂布辊保证涂布稳定性,主传动变频调速,不锈钢加热管配热风循环烘箱与 PID 温控。
极片制备的关键工序设备:挤压式、转移式、刮刀式、微凹式及提拉涂膜机,涵盖实验室研发与中试线。

设备型号:CI-TB-501
CI-TB-501 用于实验室小批量极片制备,可替代手工刮浆与烘箱烘干,提高涂层均匀性和烘干效率。收卷采用自动纠偏、精度 ±0.2 mm;高精度涂布辊保证涂布稳定性,主传动变频调速,不锈钢加热管配热风循环烘箱与 PID 温控。

设备型号:CI-TB-502
CI-TB-502 设 5 个液料工位,支持 2 个样件进行最多 5 次不同液料的提拉制膜(多层),料液工位可自动转换。4.3 英寸彩色触摸屏操作,PLC 程序配合悬空拉线传导技术减少震动,适合高校与科研院所的液相薄膜制备。

设备型号:CI-TB-503
CI-TB-503 用于片状基材表面涂覆,适合陶瓷类、晶体类、电池材料及特殊纳米薄膜研究。设备由挤压模具、涂覆平台、供料系统和控制系统组成,采用狭缝挤压方式涂覆;涂覆平台大面积均匀加热保证基材控温,高精度注射泵可在低流量下稳定注料。

设备型号:CI-TB-504
CI-TB-504 采用狭缝挤压方式对片状基材进行非接触式涂布,涂覆平台大面积均匀加热、控温精度高,涂层均匀一致。配高精度注射泵满足低流速注料需求,适用于陶瓷、晶体、电池材料等薄膜的制备研究。

设备型号:CI-TB-505
CI-TB-505 采用 2 路注射泵实现双层同时涂布,一次走带完成双层结构成型。涂覆平台大面积均匀加热确保基材控温,高精度注射泵可在低流量下注料,适合双层电极、功能层等薄膜工艺研究。

设备型号:CI-TB-506
CI-TB-506 集涂膜与烘干于一体,腔体采用大面积均匀加热,保证内部高精度匀温(室温~130 ℃,控温精度 ±2 ℃)。标配制膜器,涂布厚度可调、精度高,适用于陶瓷、晶体、电池材料及纳米薄膜的高温成膜研究。

设备型号:CI-TB-507
CI-TB-507 涂布与烘干集成的实验设备,腔体内大面积均匀加热,数显温控精度 ±2 ℃。标配制膜器实现厚度可调的高精度涂布,适合陶瓷类、晶体类、电池材料薄膜等高温涂膜研究。

设备型号:CI-TB-508
CI-TB-508 一体化自动涂膜烘干机,腔体大面积均匀加热、温度均匀性好(室温~130 ℃,±2 ℃),标配制膜器使涂布厚度可调、精度高,适合各类高温成膜与电池材料薄膜研究。

设备型号:CI-TB-509
CI-TB-509 兼容狭缝挤出与三辊转移两种涂布方式,可连续和间歇涂布。采用兵神螺杆泵伺服驱动、供料稳定无脉动;推胶辊双伺服丝杆控制,可按浆料粘度调整收尾;放卷、烘道尾与收尾均设纠偏,逗号刮刀计量保证高涂布精度。

设备型号:CI-TB-510
CI-TB-510 用于基材双面同时涂布,整机由放卷、涂布、烘箱、牵引、收卷及电控部分组成。PLC 控制,放料/收料张力与磁粉离合器调节,气涨轴收卷并带纠偏;2 m 烘箱采用热风循环、管道外排,最高温度 120 ℃。

设备型号:CI-TB-511
CI-TB-511 三辊转移式间歇涂布机,机架分三节(每节 1.5 m)便于运输与就位。推胶辊双伺服丝杆控制,可按浆料粘度调整收尾;配接料平台、隔断平台与双重张力收尾,放卷、烘道尾、收尾均设纠偏,逗号刮刀计量获得高涂布精度。

设备型号:CI-TB-512
CI-TB-512 三辊转移式实验涂布机,可连续与间歇涂布,按接近生产级的涂布精度和一致性设计。基材张力控制配纠偏装置,走带稳定;逗号刮刀计量配合精密调节机构,模拟信号控温发热精度 ±0.3 ℃,适合锂电、超级电容等研发小试。

设备型号:CI-TB-513
CI-TB-513 三辊转移式间隙涂布机,机架式结构,可在极片上按设定留白进行间隙涂布。配基材张力控制与纠偏装置,逗号刮刀计量保证涂层厚度一致,适合实验线连续/间歇涂布工艺验证。

设备型号:CI-TB-514
CI-TB-514 用于锂离子电池正负极极片的精密涂布,整机由放卷、机头、烘箱、牵引、收卷及电控部分组成。可连续与间隙涂布,把浆料均匀涂覆在基材上并控制尺寸与重量在工艺范围内,干燥后收卷,为后工序做好准备。

设备型号:CI-TB-515
CI-TB-515 单面挤压式实验涂布机,适用于油性/水性磷酸铁锂、钴酸锂、三元、锰酸锂、石墨、钛酸锂等浆料体系。全自动 PID 闭环张力控制精度 ±1 N,西门子 PLC 配高精度伺服电机,进口标准件占比达 85%;烘箱变频送风并带热风回收,降低使用成本。

设备型号:CI-TB-516
CI-TB-516 双层挤压式极片涂布机,适用于油性/水性多种正负极浆料体系。采用全自动 PID 闭环张力控制,精度可达 ±1 N;欧姆龙 PLC 与高精度伺服电机等进口标准件占比 85%,保证涂布面密度与尺寸的高度一致性,适合动力电池高速涂布。

设备型号:CI-TB-517
CI-TB-517 用于锂离子电池隔膜的精密涂布,采用微凹辊转移方式。整机由放卷、机头、烘箱、牵引收卷及电控部分组成,涂膜尺寸与重量稳定控制在工艺范围内,经干燥处理后收卷,为后工序做好准备。

设备型号:CI-TB-518
CI-TB-518 采用大面积红外线加热,腔体升温快、温度均匀(室温~130 ℃,控温精度 ±1 ℃)。标配制膜器,涂布厚度可调、精度高,适用于陶瓷、晶体、电池材料及纳米薄膜等高温涂膜研究。

设备型号:CI-TB-519
CI-TB-519 逗号刮刀计量配合精密调节机构,实现连续涂布的高精度与一致性。基材张力控制、走带稳定并配纠偏装置,模拟信号控制发热、精度高寿命长;按接近生产的标准设计,适合锂电、超级电容等研发与小试。

设备型号:CI-TB-520
CI-TB-520 台式卷对卷狭缝挤压涂布机,整机可放入手套箱内操作,适合固态电池研究。狭缝挤出模头非接触涂布,精度高、一致性好,配精密注射泵供料(一次处理约 1 L);红外加热配独立 PID 温控,不锈钢炉体耐腐蚀、体积小。

设备型号:CI-TB-521
CI-TB-521 三辊转移式精密涂布机,用于正负极极片的精密涂布。整机由放卷、机头、烘箱、牵引、收卷及电控部分组成,涂膜尺寸与重量稳定,经烘箱干燥后收卷,为后工序提供合格极片。

设备型号:CI-TB-522
CI-TB-522 实验型精密转移式涂布机,放卷—机头—烘箱—牵引—收卷一体化结构。三辊转移方式适合实验室极片涂布工艺摸索,涂层尺寸与面密度稳定,操作与维护简便。

设备型号:CI-TB-523
CI-TB-523 样品固定在提拉丝下,浸入液相薄膜材料一定时间后拉回炉管加热,使薄膜迅速固化。加热炉管可提供最高 1000 ℃ 的提拉涂膜环境(标配提拉丝适用 800 ℃ 及以下);PLC 控制步进电机、悬空拉线传导减震,控温精度 ±1 ℃。

设备型号:CI-TB-524
CI-TB-524 专为恒温环境下液相薄膜生长设计的毫米级精密提拉设备。PLC 控制、高精度步进电机驱动丝杠升降,运行平稳、定位精准;样件垂直浸渍后匀速提拉并恒温烘干,形成均匀厚度薄膜,控温精度 ±1.5 ℃,体积紧凑便于移动。

设备型号:CI-TB-525
CI-TB-525 专为液相外延薄膜研究设计,提拉丝垂直浸渍提拉样件,使表面生长出一定厚度的薄膜。体积小巧、节省实验室空间,操作简单适合初学者,清理方便,广泛用于高校、研究院所及企业实验室。

设备型号:CI-TB-526
CI-TB-526 双水浴装置可配置两种不同液体,挤压涂布头配合精密调节机构获得高涂布精度。基材张力控制、走带稳定并配超声波纠偏;采用模拟功率调整器控制加热,发热系统精度高、寿命长。 ---